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左振中; 吴振东; 屈国普; 梁海英; 鞠薇; 陈东风; 傅元勇;
南华大学核科学技术学院 衡阳421001;
中国原子能科学研究院核物理研究所 北京102413;
核孔膜; 电导法; 径迹蚀刻速率; 体蚀刻速率; 能量损失率;
机译:核孔膜的非常规蚀刻法
机译:PET核孔膜的光接枝改性
机译:NaOH浓度范围扩大与乙醇混合时PADC CR-39的整体蚀刻速率和蚀刻剂粘度研究
机译:丁氏蚀刻速率表达的几个结果:离子束蚀刻,蚀刻速率控制和选择性
机译:对未经蚀刻,蚀刻,用自蚀刻底漆处理或密封的人类牙釉质渗透性的体外研究。
机译:金辅助化学蚀刻的非线性蚀刻速率硅
机译:蚀刻剂对熔湿蚀刻蚀刻速率和质量对熔湿二氧化硅的蚀刻速率和质量影响的比较研究
机译:大面积离子束辅助蚀刻高蚀刻速率和可控各向异性的Gaas。
机译:能够将蚀刻速率最小化为氧化膜的功能氮化膜的蚀刻组成,同时保持氮化膜的蚀刻速率,以及使用该方法的蚀刻方法
机译:存储介质中的数据结构,层级速率,层级速率建立过程在数据库文件管理系统中以块形式分布。在数据记录的键上建立速率,访问数据的过程数据记录系统按层中的比率按键K来研究r。要通过层比率中的键K插入数据记录r,并按层比率按K来删除数据记录r,数据处理系统存在在文件PAIF中插入新数据记录并获得PAIF均衡速率的过程,以及数据库文件管理系统所使用的存储介质。
机译:蚀刻装置以控制等离子体的密度,沉积速率,蚀刻速率和均匀性
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