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屏蔽材料封装CMOS器件的电子辐照损伤

         

摘要

为了解决在评估抗辐射屏蔽封装材料的屏蔽效果时,应该以什么参数作为评判依据的问题,对屏蔽材料封装CMOS器件做了一些研究.通过比较有、无屏蔽材料封装CMOS器件在电子辐照下电参数的变化,分析了采用抗辐射屏蔽材料封装的CMOS器件受电子辐照的损伤机理.通过分析,指出了当前屏蔽材料封装存在的不足,以及在采用CMOS器件考察抗辐射屏蔽封装材料时应该重点考虑静态功耗电流.

著录项

  • 来源
    《核电子学与探测技术》 |2009年第2期|398-401|共4页
  • 作者单位

    新疆大学物理科学与技术学院,新疆,乌鲁木齐,830046;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

    新疆大学物理科学与技术学院,新疆,乌鲁木齐,830046;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

    新疆大学物理科学与技术学院,新疆,乌鲁木齐,830046;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆,乌鲁木齐,830011;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 场效应型;
  • 关键词

    抗辐射屏蔽材料; CMOS; 电子辐照; 静态功耗电流;

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