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姚蔚峰; 邓乾发; 胡永亮; 范红伟; 刘盾; 袁巨龙;
浙江工业大学,超精密加工研究中心,浙江,杭州310014;
化学机械抛光; 抛光垫; 沟槽形状;
机译:化学机械抛光中的抛光垫调节:调节密度分布模型以预测抛光垫表面形状
机译:垫槽几何形状对化学机械抛光中材料去除特性的影响
机译:抛光垫抛光垫电化学机械抛光平整度研究
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:勘误表:赵Y;张娜; SiG .; LiX.光纤布拉格光栅测量螺栓的最佳沟槽形状和胶水材料的研究。传感器2018181799
机译:用于控制化学机械抛光垫轮廓形状的调节过程的运动预测及实验证明
机译:具有人字形沟槽转子刚度和承载能力的气密封垫
机译:测量化学机械抛光垫的沟槽的装置和包括该化学抛光垫的化学机械抛光装置
机译:化学机械抛光垫修整剂,化学机械抛光工具,化学化学抛光垫的修整方法和化学机械抛光垫
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