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杨遇春;
无;
工艺参数; 射频磁控管溅射; ITO薄膜; 结构性能; 电性能; 稳定性; 氧化铟锡合金; 太阳能电池;
机译:射频功率对溅射Ga掺杂ZnO薄膜的光学,电,机械和结构性能的影响
机译:射频法制备Ga掺杂ZnO薄膜电性能的工艺参数优化。磁控溅射
机译:工艺参数对硫族化物纳米结构射频磁控溅射溅射薄膜的结构,光学和电学性能的影响
机译:工艺参数对射频磁控溅射沉积NiZn铁氧体薄膜性能的影响
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:射频溅射制备Ga掺杂ZnO薄膜的光电性能和电稳定性
机译:不同量的Nb掺杂对溅射TiO2-X薄膜电,光学和结构性能的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:分析工艺参数对色谱,电色谱或电泳测量性能的影响的方法及其用途
机译:使用射频溅射装置的有机薄膜层的形成方法,射频溅射装置以及用于射频溅射装置的靶材形成装置
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
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