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电子束光刻; 光阻材料; 聚甲基丙烯酸甲酯; 台湾地区; 制作技术; 纳米级; 解析结构; 高分子;
机译:电子束物理气相沉积法制备的透明导电铟钛氧化物薄膜的巨大光阻
机译:台湾IC级光阻剂量产
机译:出光将制造ArF光阻材料金刚烷
机译:使用50 kV HL-800M电子束系统的0.18um光罩制造的化学放大正阻设计
机译:研制出一种先进的复合材料,该材料由铁基质组成,并具有最佳性能的超高温陶瓷颗粒(TiB2)增强。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:通过电子束物理气相沉积制备的透明导电铟钛氧化物薄膜中的巨大光阻
机译:光化学储能:无机光阻剂研究:进展报告,1985年4月1日 - 1987年10月30日
机译:新颖的扩散器,新颖的制造方法以及新颖的阻气和阻光结构与应用
机译:含细颗粒的成分,用于形成彩色膜的油墨,用于显示的阻光膜,用于阻光的材料,带有阻光膜的基质,彩色滤光片,液晶显示元件和液晶显示器
机译:基于掺杂有聚合物的卤代烃受体转移复合物的光,电子束和X射线负性负阻以及产生负阻像的方法
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