退火温度对高介电HfO2薄膜的微结构和形貌的影响

摘要

采用等离子氧化金属薄膜法制备了HfO2栅介质薄膜,并研究了HfO2栅介质薄膜的微结构和表面形态随退火温度的变化而发生的变化规律.研究表明:随着退火温度的升高,HfO2薄膜的晶体结构发生了变化,从沉积时的非晶态过渡到晶态,从四方转变到四方和单斜相共存,最后又过渡到单斜相.扫描电镜分析表明随着退火温度的升高,HfO2薄膜的内部结构趋向致密与平整.