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方凯;
辽宁大学;
沟道效应; 沟道长度; 击穿电压; 场效应晶体管; 阈值电压; 硅栅自对准工艺; 反型层; 栅源; 表面势; 耗尽层;
机译:具有双材料底栅的高k栅叠层双材料三栅极应变无硅MOSFET的3-D解析模型,可抑制短沟道效应
机译:单栅和双栅深亚微米SOI-MOSFET的亚阈值摆幅和短沟道效应
机译:双栅MOSFET中短沟道效应对沟道厚度的依赖性分析
机译:椭圆形全栅MOSFET的新的短沟道效应降低的亚阈值行为模型
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:具有多个外延层的150–200 V分离栅沟道功率MOSFET
机译:双材料栅垂直环绕栅(DMGVSG)MOSFET抑制短沟道效应(SCE):3-D TCAD仿真
机译:全耗尽sOI(绝缘体上硅)mOsFET的短沟道效应
机译:用于MOSFET的半导体结构,具有与n型双栅晶体管的背栅的一部分和p型双栅晶体管的背栅的一部分相接触的单阱,其中栅极被相同的掺杂剂掺杂。
机译:用于包括平面双栅MOSFET的底栅的埋线互连的独立底栅连接的形成方法
机译:形成用于掩埋互连的独立底栅连接的方法,包括平面双栅MOSFET的底栅
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