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刘旸;
中国电子科技集团公司第四十七研究所 沈阳110032;
CMOS制造; 晶圆厂转移; 工艺可靠性; 静态电源电流;
机译:这是一个晶圆厂,晶圆厂,晶圆厂世界
机译:将原子层蚀刻从实验室转移到晶圆厂
机译:原子力显微镜从实验室转移到晶圆厂
机译:0.13μmCMOS工艺的可靠性研究
机译:从实验室到晶圆厂:开发用于可扩展纳米制造的纳米级交付工具。
机译:晶圆厂让小蛋白质的单粒子cryoEm研究
机译:综合系统中的Zulliger:可靠性研究综合系统中的Zulliger:可靠性研究综合系统中的Zulliger:可靠性研究
机译:评估面板代码预测与17英寸管道螺旋桨/晶圆厂模拟器以0.2马赫运行的入口性能的实验结果
机译:一种方法,使标准CMOS晶圆厂能够使用增强的规则来产生IC以感测三维信息,从而创建现有晶圆厂规则无法表达的掩模图案
机译:高密度MOS / CMOS工艺过程中直接接触的形成
机译:在电镀过程中有效转移物质的水力电解质控制在电镀过程中有效转移物质的水力电解质控制
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