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陈伟平; 张亮; 刘晓为;
哈尔滨工业大学MEMS中心,哈尔滨,150001;
IrDA红外通讯; 互补金属氧化物半导体CMOS; 共栅; 前置放大器; 高增益;
机译:使用有源反馈的低噪声CMOS共栅光学前置放大器
机译:利用双负反馈同时实现噪声,增益和带宽优化的宽带共栅CMOS LNA
机译:采用成品率建模技术的3.3V 800nV / sub rms /噪声,增益可编程CMOS麦克风前置放大器设计
机译:40nm CMOS工艺中高增益毫米波带放大器的共栅电感反馈研究
机译:用于CMOS栅电极应用的金属合金和栅堆叠工程。
机译:用于CMOS图像传感器应用的全耗尽沟槽固定光敏栅
机译:1V折叠共栅CMOS LNA,适用于整个UWB频段
机译:后栅等离子体和溅射工艺对金属栅CmOs集成电路辐射硬度的影响
机译:多输入CMOS放大器并使用高增益多输入CMOS放大器,高稳定多输入CMOS放大器,高增益高稳定多输入CMOS放大器和多输入CMOS差分放大器为零的第一绝缘栅
机译:使用四端子双绝缘栅场晶体管的CMOS放大器,多输入CMOS放大器,高增益多输入CMOS放大器,高增益高稳定性多输入CMOS放大器和使用该放大器的多输入CMOS差分放大器
机译:使用4端子双绝缘栅场效应晶体管的CMOS放大器,使用相同的高增益多输入CMOS放大器的多输入CMOS放大器,高增益,高稳定度的多输入CMOS放大器和多输入CMOS放大器放大器
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