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中束流离子注入机工艺实现原理

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摘要

粒子高速冲击其他材料并进入其中叫作离子注入.在半导体工业中,这个过程用来向纯净衬底上掺杂杂质而形成半导体.半导体工艺中这个特别的步骤是由一种特殊的粒子加速装置完成,这就是离子注入机.

著录项

来源
《微处理机》 |2013年第2期|12-1316|共3页
作者
张耀庚; 刘德实;
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作者单位

中国电子科技集团公司第四十七研究所;

沈阳110032;

中国电子科技集团公司第四十七研究所;

沈阳110032;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类微电子学、集成电路（IC） ;
关键词
离子注入 ; 高压 ; 真空 ; 半导体 ;

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