基于VC++6.0的电子束曝光控制系统

摘要

随着纳米科技的迅速发展,下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统,需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的设计原理,并着重介绍了其对电子束曝光的全过程进行控制的强大功能。