一种保持真空室真空度稳定的控制系统

摘要

本项工作是配套“８６３”项目金刚石镀膜装置而进行的，由于沉积金刚石膜的时间长达几十个小时，真空室真空度的稳定性对膜质量的好坏有很大的影响，所以保持真空度的稳定将成为一个关键性的技术问题，本文简要地介绍了利用单片机实现真空度稳定控制的工作原理，阐述了软，硬件的具体实现方法，该控制系统可按需要进行真空度的调节和设置，可与任何有真空稳定度要求的真空装置相配套。