可记录光盘染料旋涂工艺的流动机制研究

摘要

染料旋涂是可记录光盘复制中的核心工艺.依据实验给出旋涂工艺的简化模型,并运用旋转圆盘理论分析流体流动.考虑基片上的预刻槽对流动的影响,考虑基片表面和流体间的滑移效应,导出运动方程、边界方程和连续方程,最终导出染料旋涂的控制方程.