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邢彤; 袁巨龙; 赵文宏; 曹志锡;
浙江工业大学,浙江,杭州,310014;
铌酸锂; 化学机械抛光; 超平滑表面;
机译:表面活化结合化学机械抛光减薄铌酸锂晶片的工艺
机译:化学机械抛光中晶片表面压力与晶片背面载荷之间的关系
机译:12英寸之间润滑行为的比较研究。化学机械抛光过程中的铜盘和晶片
机译:MicroRaman研究光学质量铌酸锂晶片
机译:半导体晶片的化学机械抛光:预测晶片表面形状的表面元素建模和仿真
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:铌酸锂晶片晶片结构的形成贝虫交流发电机
机译:原子力显微镜图像光谱和尺度分析的介电化学机械抛光机理研究
机译:可提高晶片表面质量的化学机械抛光装置及使用该化学机械抛光方法的晶片
机译:使用化学机械抛光和/或聚醋酸乙烯酯擦洗来恢复用过的半导体晶片的质量
机译:制备铌酸锂薄膜的铌酸锂前驱体颗粒,其制备方法,制备铌酸锂薄膜的铌酸锂前驱体溶液和制备铌酸锂薄膜的方法
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