磁控溅射工艺对金属镀膜塑料结合力影响的研究

摘要

为了研究溅射工艺对金属镀膜塑料结合力的影响,以PS塑料为基底,采用磁控溅射工艺,通过设计L9(34)正交试验,在不同本体真空度、不同靶基间距、不同溅射功率、不同溅射时间下对PS塑料进行镀铬,然后对镀膜塑料进行结合力测试,分磁控溅射工艺参数对结合力的影响.实验结果表明:PS塑料基底在真空室本体真空度为1.1×10-2 Pa,靶基间距为70 mm,溅射功率为800 W,溅射时间为120 s的条件下,基膜结合力最为理想.