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姜力强; 孙微; 郑精武;
浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州310014;
电沉积铜; 电阻率; 硬度; 时间效应;
机译:自退火电沉积铜薄膜的电阻率-微观结构相关性
机译:3-N,N-二甲基氨基二硫代氨基甲酰基-1-丙烷磺酸盐电沉积的低电阻率铜膜,用于电子设备的互连
机译:在具有高电阻率和沉积膜物理特性的基材上直接进行铜电沉积
机译:铜基体上电沉积镍/铜多层薄膜的结构和显微硬度表征
机译:化学对氧化铝浆料的胶体行为和铜化学机械平坦化的铜纳米硬度的影响
机译:磁-树突效应:强磁场下的铜电沉积
机译:聚氧乙烯表面活性剂对硫酸铜硫酸铜浴电沉积硬度的影响。
机译:商品焦磷酸盐和酸性硫酸铜溶液电沉积铜的某些力学性能
机译:通过改变电流轮廓来控制电沉积铜涂层的硬度
机译:通过改变电流分布曲线来控制电沉积铜涂层的硬度
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