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离子束辅助薄膜沉积

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摘要

离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜.介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论.

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来源
《材料导报》|2003年第11期|40-43|共4页
作者
张宇峰; 张溪文; 任兆杏; 韩高荣;
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作者单位

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类工程材料学;
关键词
离子束辅助沉积; 薄膜; 感应耦合等离子体;

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