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聚甲基丙烯酸甲酯薄膜表面的亚微米级图案化

     

摘要

利用波长为172nm的真空紫外光刻蚀技术(Vacuum ultraviolet lithography,VUV)对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的表面进行了图案化微加工,并采用扫描电镜和原子力显微镜对微图案化的PMMA膜的表面形貌进行了表征.此外,还通过跟踪测试真空紫外光照后PMMA膜表面随时间变化的水接触角研究了表面的亲疏水性.结果表明,利用该方法可以成功地在PMMA基材上一次性制备出保真度较好的亚微米级微流道,而且使微流道内表面具有稳定持久的亲水性.

著录项

  • 来源
    《材料导报》|2009年第8期|11-13|共3页
  • 作者单位

    武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉,430070;

    武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉,430070;

    武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉,430070;

    武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉,430070;

    武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 工程材料学;
  • 关键词

    微流道; 图案化; 真空紫外光刻; 亲水性;

  • 入库时间 2022-08-17 16:22:57

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