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赵嫚; 王少龙; 江南; 诸跃进; 马付根; 李赫;
中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波 315201;
宁波大学理学院,宁波 315201;
宁波晨鑫维克工业科技有限公司,宁波 315201;
TiC-TiCN-TiN; 化学气相沉积; 微观结构; 耐磨性能;
机译:Pd-TiN种子层中TiN含量对Co / Pd多层介质的微观结构和磁性能的影响
机译:CVD TIN / TIBN多层涂层的微观结构和力学性能
机译:薄的中间TiN或TiC层隔开的CVD kappa-Al_2O_3多层的微观结构
机译:纳米多层AIN-CrN-TiN涂层的微观结构对其在高温下的摩擦学性能的影响
机译:CVD TiAlN、TiN 和 Wn 涂层的微观结构研究
机译:使用具有比钨硅化物层的比电阻低的比电阻的CVD-Ti层,CVD-TiN层和钨层来制造半导体器件的位线的方法
机译:在底层CVD-TiSi2层上使用自对准氮化处理原位形成TiSi2 / TiN双层结构
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