二氧化钒薄膜的退火组分变化及光学特性研究

摘要

为得到高纯度的VO2薄膜,对其制备参数进行了探索.VO2薄膜用磁控溅射法制备.对不同条件下制备的VO2薄膜用X射线电子能谱仪(XPS)测试,并通过拟合来得到3,4,5价钒在薄膜中所占的比例.为提高4价钒的含量对薄膜进行了退火处理,分析了退火对氧化钒薄膜中4价钒含量的影响.结果表明,VO2薄膜对10.6μm激光的透过率从60℃时的74%变到78℃时的11.93%,发生了相变.