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张建新; 陈永平; 梁平治;
中国科学院,上海技术物理研究所,上海,200083;
中国科学院,研究生院,北京,100049;
光电子学; 钝化膜; 电子辐照; 抗辐射;
机译:用深层瞬态光谱研究γ射线辐射对硅上沉积的Al_2O_3原子层钝化性能的影响
机译:AI_2O_3 / SiN_x叠层与低应力SiN_x膜钝化的高性能In_(0.83)Ga_(0.17)As SWIR光电二极管
机译:低温等离子体沉积SiO_x / SiN_y电介质叠层对重掺杂p〜+硅具有出色的表面钝化性能,并具有优化的抗反射性能,适用于太阳能电池应用
机译:PECVD SiOx / SiNx和优化抗反射性能在工业上可行的重掺杂p型和n型晶体硅的表面钝化研究进展
机译:氢化硅键合环境在α-硅:氢膜中对c-硅表面钝化的作用
机译:隧穿原子层沉积氧化铝:硅结的表面钝化的相关结构/电性能研究
机译:PECVD SiOx和Sinx:H膜对硅太阳能电池抗反射多孔硅涂层光学和钝化性能的影响
机译:原位XaNEs研究了钝化膜在铁和人造钝化膜上的阴极还原行为
机译:在半导体中形成钝化区域的方法,光电二极管网络对红外辐射敏感,制造方法以及对身体表面进行钝化的优点。
机译:在半导体器件上形成钝化区的方法,红外辐射敏感光电二极管阵列,制造相同方法的方法以及钝化车身表面的方法
机译:氧化钇喷涂膜涂膜的部件,具有良好的热辐射性能和抗损伤性,并且制造方法相同
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