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相位掩模版法刻制光纤光栅的研究

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摘要

对刻制光纤光栅的相位掩模版法进行了分析 ,并做了实验研究 .

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来源
《华南师范大学学报：自然科学版》 |2001年第2期|40-44|共5页
作者
杜戈; 刘伟平; 廖常俊; 刘颂豪;
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作者单位

广州市电信局;

暨南大学电子工程学系;

华南师范大学量子电子学研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN818.05;
关键词
光纤光栅; 刻制; 相位掩模版法; 反射率; 光谱; 载氢处理; 光敏性; 光纤通信;

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