氩离子注入PET表面沉积Cu膜的界面特性

摘要

为了研究Ar离子注入对薄膜沉积的影响,使用2 keV的氩离子对PET进行表面注入,注入剂量为5×1011ions·cm-2,然后用离子溅射镀膜法,在PET表面均匀地沉积一层Cu膜,用台阶仪、俄歇探针、原子力显微镜等对其进行测试分析.结果表明,该合金膜的厚度为490 nm,膜表面平整,无缺陷.对该合金膜进行纳米划痕测试,得到临界载荷为8.5 mN.实验结果证明,Ar离子注入对薄膜性能有提高.