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肖晓玲; 洪瑞江; 林松盛; 李洪武; 侯惠君;
广州有色金属研究院,广东,广州,510651;
TiC/a-C薄膜; 非平衡磁控溅射; 组织形态;
机译:磁控溅射WS2 / Fe / A-C / Fe多层膜的微观结构和摩擦学行为,各种沉积温度
机译:非平衡磁控溅射沉积TiN / Ti多层膜的等离子体特性与腐蚀性能之间的关系
机译:直流磁控溅射在低或高离子通量下控制沉积工艺以增强nc-TiC / a-C:H涂层的机械性能
机译:NC-TIC / A-C:H涂层的摩擦性质,由磁控溅射在生长膜的低离子轰击时制备的磁控溅射
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:磁控溅射沉积高级TiC / a-C:H纳米复合涂层
机译:磁控溅射制备Cu / Ta多层膜的力学性能
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:磁控溅射膜沉积装置,磁控溅射膜沉积方法以及使用该方法制造的膜成员
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
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