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氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响

     

摘要

本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度.以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应.本文研究表明,氩等离子体处理是消除氧化物阻变效应电形成过程的有效手段.

著录项

  • 来源
    《材料科学与工程学报》 |2014年第6期|922-924|共3页
  • 作者单位

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波315201;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜技术;
  • 关键词

    阻变; ZnO薄膜; 氩等离子体处理;

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