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于翔; 于俊峰; 王成彪;
中国地质大学,工程技术学院,北京,100083;
Si-B-N复合薄膜; 负偏压; 结构; 组成;
机译:从四甲基二硅氮烷前体进行远程氮微波等离子体化学气相沉积。 1.碳氮化硅薄膜的生长机理,结构和表面形态
机译:从四甲基二硅氮烷源进行远程氢氮等离子体化学气相沉积。第1部分。沉积非晶氢化碳氮化硅薄膜的过程,结构和表面形态的机理
机译:等离子体增强化学气相沉积六甲基二硅氮烷薄膜的化学组成和性能
机译:电子回旋谐振等离子体增强化学气相沉积沉积硅氧氮薄膜的特性
机译:微波等离子体在硼-碳-氮三元体系中合成薄膜增强了化学气相沉积。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:通过射频等离子体辅助化学气相沉积法在晶体硅上生长的高取向六方氮化硼薄膜的微观结构
机译:硼 - 氮,硼 - 碳,硅 - 氮和硼 - 硅 - 碳体系中合金的热物理性质
机译:含硅氮薄膜的低温等离子体增强化学气相沉积
机译:硅氮薄膜的低温等离子体化学气相沉积
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