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吕宇鹏; 肖桂勇; 李士同;
山东大学,材料科学与工程学院,济南,250061;
羟基磷灰石; 等离子喷涂; 涂层; 化学不均匀性;
机译:等离子体喷涂羟基磷灰石涂层中化学不均匀性的表征。
机译:等离子体喷涂参数对喷涂羟基磷灰石涂层的影响
机译:喷涂参数对气体隧道等离子体喷涂羟基磷灰石涂层组织和力学性能的影响
机译:羟基磷灰石微细颗粒刺穿和等离子体喷涂羟基磷灰石涂层对β钛合金疲劳性能的影响
机译:钛6铝4钒植入物上等离子喷涂的羟基磷灰石涂层的机械完整性。
机译:Suppl 1-M5:微等离子体喷涂沉积相纯高结晶羟基磷灰石涂层的纳米压痕研究
机译:等离子喷涂参数对羟基磷灰石涂层结晶度的影响评估等离子喷涂工艺参数对羟基磷灰石涂层结晶度的影响
机译:确定流体 - 流体相互作用和介质非均匀性对不混溶粘性指状物生长的相对影响的实验研究
机译:等离子体均匀性高的感应耦合等离子体发生装置和等离子体均匀性控制方法,用于使等离子体保持室内最佳等离子体均匀性
机译:用于产生具有高等离子体均匀性的感应耦合等离子体的设备及其控制等离子体均匀性的方法
机译:等离子体密度调节器,可改善离子化金属等离子体源中的等离子体密度均匀性和厚度均匀性
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