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PbZr0.52Ti0.48O3薄膜红外椭圆偏振光谱研究

     

摘要

用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)薄膜.XRD结果表明经过退火后的PZT薄膜呈现多晶结构.通过红外椭圆偏振光谱仪测量了λ为2.5~12.6μm范围内PZT薄膜的椭偏光谱,采用经典色散模型拟合获得PZT薄膜的红外光学常数,同时拟合得到未经处理的PZT薄膜和退火后PZT薄膜的厚度分别为454.2nm和450.3nm.最后通过拟合计算得到结晶PZT薄膜的静态电荷值为|q|=1.769±0.024.这说明在磁控溅射法制备的PZT薄膜中,电荷的转移是不完全的.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》|2003年第1期|59-62|共4页
  • 作者单位

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光电子技术、激光技术;
  • 关键词

    PbZr0.52Ti0.48O3,椭偏光谱,光学常数,静态电荷;

  • 入库时间 2023-07-25 20:02:35

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