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史天义; 黄谦;
不详;
X射线光刻胶; 光刻胶;
机译:C_(60)作为X射线光刻胶抗蚀剂的行为研究
机译:同步辐射X射线光刻光刻胶显影速率模型的研究
机译:X射线光刻光刻胶膜的研究
机译:使用相干的反斯托克斯拉曼散射和X射线显微光谱技术研究基于硅的光刻胶。
机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻胶的研究
机译:用于ArF光刻胶的光刻胶下层抗反射涂层和间隙填充材料的研究
机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光
机译:用于研究液体,液晶的样品的容器,特别是用于对液体和液晶的X射线研究的样品,以及用于制备用于研究液体,晶体和样品的材料的样品的方法和装置
机译:用于超短X射线脉冲的点聚焦装置,例如用于产生高强度X射线以进行科学研究,在X射线源和检测器的焦点处放置了一个椭圆形反射面
机译:示例:X射线X射线上的X射线-衍射-晶体研究设备
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