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单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线的制备及其光学性能

         

摘要

介绍了用一种简单的气相合成方法制备出了大量高纯单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线,所形成的纳米线粗细均匀、表面光滑,直径为30~80nm,其长度可达数百微米.同时讨论了氮化硅纳米线的生长机理,其生长过程中气-固机制起主导作用.荧光测试结果表明,氮化硅纳米线的发光有一个宽的发光带(波长从500~700 nm),发光峰位于567 nm.

著录项

  • 来源
    《功能材料》 |2004年第z1期|3027-3029|共3页
  • 作者

    解挺; 吴玉程; 张立德;

  • 作者单位

    合肥工业大学,摩擦学研究所,安徽,合肥,230009;

    中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031;

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;

    中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031;

    中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN304.2+2;
  • 关键词

    氮化硅; 纳米线; 制备; 气-固机制; 荧光;

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