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关博; 江勇; 许小亮;
中国科技大学,少年班,安徽,合肥,230026;
中科院结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;
中国科技大学,物理系,安徽,合肥,230026;
表面形貌; 正常晶粒生长; 反常晶粒生长; LSW理论模型;
机译:沉积-沉淀法研究金纳米颗粒在溅射氧化铈层上的沉积特性:制备参数的影响
机译:溅射沉积前驱体制备的纳米多孔金薄膜的微观结构演变
机译:溅射沉积朝向短阳离子硫醇荧光金纳米纳米蛋白:使用高效液相色谱法研究其独特的结构和光学特性
机译:溅射沉积法通过溅射沉积法对钛菊薄膜对钛薄膜形态学性能和光催化活性的影响
机译:溅射沉积制备氧化ha薄膜的纳米结构-性质关系。
机译:射频磁控溅射在CpTi衬底上制备TiC薄膜的微观结构结构和摩擦学特性的数据集
机译:基于表面等离子体共振光谱法研究溅射 - 脱合剂联合制备纳米多孔金薄膜用于痕量苯并[a]芘的痕量检测
机译:射频溅射沉积锑化铟薄膜的结构和电学特性。
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译:原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜的卤化物掺杂源,制备卤化物掺杂源,原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜和卤化物的方法用该方法制成的掺杂氧化物薄膜
机译:高纯度钇制备高纯度钇溅射靶金属栅薄膜的高纯度钇工艺,所述高纯度钇溅射靶金属栅薄膜沉积有所述的金属栅膜,所述器件具有半导体元件和器件
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