微弧氧化法生成四方相BaTiO3薄膜工艺研究

摘要

针对微孤氧化法生成四方相BaTiO3薄膜的工艺参数影响规律进行研究。将Ti板置于含Ba2＋抖的电解液中在0．15～0．55mol／L．和1．0～5．5A的浓度、电流区域内进行微弧氧化。实验发现微弧只在一定的浓度一电流区域中发生，可用平面图直观表示；在不同的浓度一电流区域内，薄膜具有不同的形貌，据此将浓度一电流区域图进一步划分成不同区域。对不同浓度一电流区域内生成的薄膜形貌进行分析，得到了生成表面形貌均匀、平整薄膜的工艺规律：应在不发生电击穿的情况下尽量选择大电流、在溶解度的范围内选择高的电解液浓度，根据这一规律选择0．5mol／L、3．0A的浓度和电流，40min后生成的薄膜主要由四方相BaTio。构成，在1kHZ下的介电常数为113．0。