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郭骅; 聂劲松; 马玉蓉;
中国科学技术大学;
中国科学技术大学 合肥 230026;
合肥 230026;
气相沉积; 金刚石薄膜; 时间分辨率; 反应室; 信号分析; 测量精度; 检测系统; 瞬态; 原位检测; 分辩率;
机译:在微晶硅薄膜的等离子体增强化学气相沉积过程中,将光发射光谱作为过程控制工具
机译:在金刚石化学气相沉积相关条件下,在金刚石化学气相沉积的条件下运行的微波激活氢等离子体的空间附加光发射和建模研究
机译:与等离子体增强化学气相沉积沉积的金刚石膜微观结构相关的光发射光谱
机译:等离子体增强化学气相沉积法在碳纳米管合成过程中气相生长环境的数值模拟和排放诊断。
机译:H2等离子体预处理对微波等离子体化学气相沉积法垂直排列碳纳米管生长的影响
机译:微波活化CH 4 sub> / H 2 sub>等离子体中C 2 sub> – sup>阴离子的光发射用于化学气相沉积钻石
机译:非晶硅等离子体增强化学气相沉积过程中放电动力学和等离子体化学模型
机译:等离子体处理方法,等离子体处理装置,等离子体化学气相沉积方法和等离子体化学气相沉积系统
机译:通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的方法和通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的设备
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
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