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梅志;
不详;
碳化硅; 表面氧化处理; 非晶化;
机译:SiH_4-CH_4等离子体的红外光谱和发射光谱分析原位观察非晶碳化硅膜
机译:使用红外光谱法和SIH_4-CH_4等离子体的红外光谱和发射光谱分析的非晶碳化硅膜的原位观察
机译:水蒸气光照射过程中锐钛矿型纳米晶体表面非晶化的原子水平原位观察
机译:非晶态SI_(0.8)GE_(0.2)薄膜的元诱导晶化原位观察
机译:通过S / TEM局部探查尺寸受限的非晶和晶体结构的结构和性能。
机译:离子辐照诱导石墨烯非晶化的原位观察和原子分辨率成像
机译:TEM在原位观察中鉴定氮化硅中跨晶裂纹路径
机译:磷灰石结构辐射诱导晶体非晶化的原位观察
机译:在例如半导体器件的碳化硅衬底上产生欧姆接触的方法。功率电子器件,包括在衬底表面上产生氧化层,并在接触区域上施加接触金属化层
机译:透射电子显微镜(TEM)功率探头,用于电迁移的原位观察以及集成电路或微处理器的操作
机译:包含非晶化剂的非晶组合物,非晶化剂及其用途
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