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半导体生产; H2O2; 生产厂; 化工; 纯度; 株式会社; H202; 生产商;
机译:不同高级氧化工艺(UV / O3 / H2O2)处理线性烷基苯(LAB)生产厂废水的性能比较研究
机译:昭和电工,住友精工,林德和空气化工公司继工厂之后投资了耀眼的永河三角洲的高纯度氨水“ Flash”,年生产能力为6000吨/年。
机译:在美国三菱瓦斯化学公司建的MX尼龙生产厂
机译:UV / H2O2和VU / Fe2 + / H2O2化学氧化工艺处理CEH废水的研究
机译:使用电子束熔化工艺制造的高纯度铌结构的表征。
机译:校正至:范XX梁爱玲谢Y刘志强郑育芳姚宗建卢林乐吴建礼何继新袁正伟傅坚魏克立黄洁肖德建罗立新姜中宝周亚丽甘瑞科和刘力。抗氧化氧化还原信号28:339–3572018. DOI:10.1089 / ars.2017.7090
机译:H2O2定量给料策略对微波-H2O2高级氧化工艺预处理污泥的影响
机译:用于sI半导体生产的抗扩散,高纯度晶圆载体
机译:原位生成H2O2的氧化工艺及其聚合物封装的催化剂
机译:使用湿式快速热氧化工艺制造带有绝缘膜的德拉姆和其他半导体器件
机译:在由至少第一和第二基本半导体接触形成的第一行半导体器件中形成的全面霍夫多普法克半吉利德型凝胶,该第一行和第二基极接触与第一吉利德型混合,并且导电率高于半吉利德型,并且相对较小的发射体与第一吉利德型相对,第二黄变相反当在第一个和第二个基础接触之间连接一个插接的sbron时,在第一个和第二个基础接触之间就形成了一个绝热负的weerstandskarakteristiek,显示了这种半geleideriderrichting。
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