NaF薄膜的脉冲激光沉积法制备与结构研究

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(100)衬底上制备了NaF薄膜.在激光重复频率2 Hz,能量密度3 J/cm2,本底真空度5×10-5 Pa的条件下,研究衬底温度对薄膜沉积速率及结构的影响.台阶仪分析表明:薄膜的沉积速率随衬底温度增加呈指数函数增加,算出NaF薄膜的反应激活能为48.67 kJ/mol.原子力显微镜分析表明:薄膜致密而光滑,均方根粗糙度为0.553 nm.扫描电镜截面微观形貌分析表明:薄膜呈现柱状结构.X射线衍射分析表明:NaF薄膜为面心立方晶体结构,并具有显著的择优取向;当衬底温度约为400 ℃时,平均晶粒尺寸最大(129.6 nm),晶格微应变最小(0.225%).