铝含量及偏压对磁控溅射氮铝铬薄膜结构及性能的影响

摘要

本文采用反应磁控溅射法在烧结NdFeB表面连续地沉积了一系列不同铝含量的氮铝铬薄膜,使用扫描电镜、纳米压痕仪分别表征了薄膜的形貌和硬度.所制备的薄膜铝含量范围在1~40at.%之间.研究结果表明:铝含量改变了薄膜显微结构的致密性,以至于关系着薄膜硬度.而基底施加合适的负偏压会使薄膜致密、硬度提高.实验中氮铝铬薄膜的获得的最高硬度为24.8Gpa,此时施加的偏压为150V,铝含量为33.29at.%.