尼龙-66晶区/非晶区体结构红外光谱研究

摘要

在4000~600cm^-1的频率范围内,采用红外光谱技术研究了尼龙-66的分子结构。以尼龙-66的NH和NH-倍频为研究对象,采用三级红外光谱技术进一步开展了尼龙-66热稳定性的研究。实验发现,在303~393K的温度范围内,尼龙-66的NH对应的红外吸收频率出现了明显的蓝移现象。进一步开展了尼龙-66的NH和NH-倍频的二维红外光谱研究。实验发现:尼龙-66的NH的红外吸收频率包括3320cm^-1(NH-晶区)和3280cm^-1(NH-非晶区),而随着测定温度的升高,尼龙-66的NH红外吸收峰变化快慢顺序为3280cm^-1(NH-非晶区)>3320cm^-1(NH-晶区);研究了尼龙-66的NH-倍频的二维红外光谱,实验发现:尼龙-66的NH-倍频的红外吸收频率包括3085cm^-1(NH-倍频-1)和3072cm^-1(NH-倍频-2),而随着测定温度的升高,尼龙-66的NH-倍频的红外吸收峰变化快慢顺序为3085cm^-1(NH-倍频-1)>3072cm^-1(NH-倍频-2)。最后同时开展了尼龙-66的NH/NH-倍频二维红外光谱的研究,研究发现随着测定温度的升高,尼龙-66主要官能团红外吸收峰变化快慢顺序为:3280cm^-1(NH-非晶区)>3085cm^-1(NH-倍频-1)>3072cm^-1(NH-倍频-2)>3320cm^-1(NH-晶区)。该项研究拓展了三级红外光谱技术在高分子工程材料(尼龙-66)结构及热稳定性方面的应用范围。