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王崇晓; 洪嫄; 汪夕芳; 朱龙平;
中山大学化学工程与技术学院,广东珠海519000;
黄埔海关,广东东莞523011;
中山大学药学院,广东广州510006;
电解蚀刻; 温度; 电流强度; 电解蚀刻液;
机译:激光对CR-39聚合物探测器的活化能,体蚀刻速率和轨迹蚀刻速率的影响
机译:深度反应离子蚀刻参数对具有高纵横比极深硅蚀刻工艺蚀刻速率和表面形态的影响:
机译:电解蚀刻高纯铝箔电解电容器铜浓度对电解蚀刻的影响
机译:氯五氟乙烷等离子体化学性质及其对硅锗和二氧化硅蚀刻速率的影响
机译:纳米技术在自蚀刻粘结系统中对不锈钢正畸托槽的剪切粘结强度的影响
机译:蚀刻剂对熔湿蚀刻蚀刻速率和质量对熔湿二氧化硅的蚀刻速率和质量影响的比较研究
机译:静态条件下影响各种电解液中镁腐蚀速率的因素研究
机译:通过最小化蚀刻速率负载的影响进行均匀蚀刻的机制
机译:影响大学生吸烟率的家庭因素研究
机译:能够将蚀刻速率最小化为氧化膜的功能氮化膜的蚀刻组成,同时保持氮化膜的蚀刻速率,以及使用该方法的蚀刻方法
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