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谭平; 袁泽喜;
武汉冶金科技大学;
四氯化钛 ; 氨气 ; 气相反应 ; 氮化钛 ;
机译:与四氯化钛和氨气的序贯相互作用过程中硅表面上的化学转变
机译:四氯化钛等离子体合成氮化钛,碳化物和碳氮化物的平衡能和技术特征
机译:六甲基二硅氮烷与四氯化钛反应生成氮化钛薄膜的双源APCVD
机译:钠蒸气与四氯化钛的气相反应形成钛和氮化钛薄膜
机译:使用PVD两步氮化钛阻挡层工艺的优势,以及由于钨膜的不均匀性,钨膜沉积产生的残留副产物对工艺集成的影响。
机译:一氧化氮存在下的柠檬烯臭氧分解:气相反应产物和收率
机译:通过气相反应沉积氮化钛
机译:O-原子与(CH3)2NNH2,CH3NHNH2和N2H4的气相反应动力学,以及OH产物的支化比。
机译:具有金属钠,四氯化钛与铝金属和四烷基(二甲基氨基)-硅烷的还原产物以及含有有机改性剂的催化剂的聚合过程中丙烯的制备方法
机译:化学计量的二硫化钛钛产品。 -在控制温度下通过四氯化钛和硫化氢的气相反应。
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