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张文斌; 王海明; 葛劢翀;
中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京 100176;
碲锌镉; 双面磨抛; 粗糙度;
机译:通过基本概念与非线性源术语抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛光术不等式的统一规范的新误差
机译:陶瓷球混合磨抛后表面几何形状变化的分析
机译:串并联混合磨抛机模态实验分析与研究
机译:双面磨抛机床系统的研究
机译:半导体晶片的化学机械抛光:预测晶片表面形状的表面元素建模和仿真
机译:磨抛后光学元件的亚表面损伤分析与检测技术研究
机译:考虑新脱墨线的磨机必须回答环境问题:在磨机允许和处理工艺废物之前,必须分析各种废纸等级的物理化学性质
机译:用于半导体晶片的双面化学机械抛光的方法和装置以及由此可获得的半导体晶片
机译:三维工件手册磨抛机及磨抛方法
机译:固定式磨料磨抛工具,其制造方法以及使用固定式磨料磨抛工具进行抛光的抛光方法
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