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白琨; 贾若雨; 李嘉浪; 岳爽;
北京烁科精微电子装备有限公司 北京 100176;
化学机械抛光; 精准过程控制; 数据库;
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机译:4. CMP国际“厌氧消化植物监测与过程控制”国际会议
机译:半导体CMP过程控制,用于预测消耗成员劣化的效果
机译:氧化物CMP作为用于在CMP中的CMP期间缺陷的试验载体,所述复合聚合物芯 - 二氧化硅壳研磨剂设计用于Cu CMP期间的刮擦
机译:芯片多处理器(CMPS)中动态热管理的设计和分析。
机译:高剪切湿法制粒过程控制中关键质量属性的多元分析和质量设计方法综合研究
机译:基于统计过程控制的纸板CMPC Maule工厂成品配送周期的改进
机译:工商组织日常管理综合系统数据库的设计与实现
机译:适用于铜CMP和低K介电CMP应用的自喷CMP工具设计
机译:用于铜CMP和低k介电CMP等应用的自虹吸CMP工具设计
机译:用于下一代氧化物/金属CMP的优化CMP空调器设计
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