退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
原子力显微镜; 半导体工艺; 测量技术; Instruments公司; 三维; 快速测量方法; 非破坏性; 高分辨率;
机译:HOYA在东京熊本市推出45nm以下的光掩模原型生产线
机译:新的光斑技术进入了检测设备市场,推出了用于45nm工艺的光掩模缺陷检测设备。
机译:半导体MIRAI项目的最新铜布线技术-支持45nm节点后的精细工艺
机译:MOSRA:针对45nm及以下工艺的高效,通用的MOS老化建模和可靠性分析解决方案
机译:用于45nm及以后工艺的氧化gate和硅酸ha栅氧化物的工艺开发,表征,瞬态松弛和可靠性研究。
机译:TTmm推出新Tautomycin类似物和Insight的功能研究到Tautomycin生物合成和活动
机译:茶叶制造工艺运作和质量控制的测量技术的最新发展
机译:INsIGHTs发展的最新进展
机译:用原子力显微镜检测三维矢量的方法及用力三维向量检测的原子力显微镜
机译:采用45NM CMOS技术的具有四个多个输出的功率高效锁相环
机译:独立纳米结构三维结构的原子力显微镜精密测量方法,具有原子力显微镜多个问题的纳米结构扫描装置和使用相同方法的扫描方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。