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段立安;
电子工业部第四十五研究所;
投影光刻物镜; 光学设计; 分辨率; 投影仪;
机译:设计11纳米极紫外光刻节点的投影物镜
机译:演示三层镜物镜在超紫外线显微镜下的30 nm空间分辨率:通过观察光刻掩模进行成像测试
机译:通过ENEA实验室规模的极紫外投影光刻系统进行高分辨率构图的初步结果
机译:用于0.35um深紫外光刻的高NA投影光学系统的设计和分析
机译:基于微镜阵列的高分辨率光学无掩模光刻。
机译:基于CCD图像分析的线性比例投影光刻光刻对准方法
机译:极紫外光刻物镜设计中的网络搜索方法
机译:用于极紫外光刻的扩展场schwarzschild物镜的表征
机译:用于微光刻的投影物镜,具有该投影物镜的微光刻投影曝光设备,用于生产组件的微光刻工艺以及使用该方法生产的组件
机译:用于微光刻的投影物镜,具有该投影物镜的微光刻投影曝光设备,用于组件的微光刻制造工艺以及使用该方法制造的组件
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