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硅片湿法清洗工艺技术及设备发展趋势

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摘要

简要介绍了硅片湿化学清洗工艺技术及清洗设备结构技术,包括一些典型的槽体结构、干燥工艺技术等.并就清洗技术的发展需要,阐述未来清洗设备的发展趋势.

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来源
《电子工业专用设备》 |2011年第4期|9-13,28|共6页
作者
曹秀芳; 姚立新; 祝福生; 宋文超;
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作者单位

中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;

中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;

中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;

中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类洁净技术;
关键词
硅片; 污染物; 标准工业湿法清洗; 槽式清洗; 旋转甩干; 单片旋转清洗;

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