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霍万库; 胡灼源;
不详;
等离子体; 喷射; 气相沉积; 金刚石薄膜;
机译:热丝化学气相沉积在低温低压下合成的纳米晶金刚石薄膜
机译:三种不同化学气相沉积技术对金刚石薄膜的三种不同化学气相沉积技术的对比研究
机译:微波等离子体化学气相沉积和热丝化学气相沉积技术在硅衬底上生长金刚石薄膜的比较研究
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:直接模拟蒙特卡洛法研究载气流速和源电池温度对低压有机气相沉积模拟的影响
机译:通过低压化学气相沉积,通过低压化学气相沉积(Bi1-xtex)3和(Bi1-ysby)2Te3薄膜
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积(CVD)技术的比较研究。
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:等离子反应器用于气相气相沉积金刚石薄膜
机译:磁性增强的高密度等离子体 - 化学气相沉积等离子体源用于沉积金刚石和金刚石薄膜
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