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化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究

         
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摘要

采用正交实验法探索了化学沉积钴硼合金纳米晶涂层的制备工艺,并对其沉积速率进行了研究,从而得出较优的工艺参数,同时详细讨论了硫酸钴、酒石酸钠、DMAB(二甲基胺硼烷)、温度等因素对沉积速率的影响.

著录项

  • 来源
    《电镀与环保》 |2004年第4期|27-29|共3页
  • 作者

    舒霞; 吴玉程; 张勇; 郑玉春; 王文芳; 黄新民; 李广海;

  • 作者单位

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽合肥,230009;

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽合肥,230009;

    中国科学院固体物理研究所,安徽合肥,230031;

    中国科学院固体物理研究所,安徽合肥,230031;

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽合肥,230009;

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽合肥,230009;

    合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽合肥,230009;

    中国科学院固体物理研究所,安徽合肥,230031;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 电镀工业;
  • 关键词

    钴硼合金; 化学沉积; 纳米晶; 合金涂层; 制备;

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