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化学镀铜液自动分析补充系统设计

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摘要

设计出一种化学镀铜液自动分析补充系统.通过监测Cu2+浓度、OH-浓度及温度,准确分析化学镀铜液中各组分的消耗量.通过控制电磁阀,及时补充消耗的Cu2+和OH-,维持化学镀铜液成分稳定,进而保证化学镀铜的质量.

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来源
《电镀与环保》|2016年第4期|40-42|共3页
作者
王宝英;
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作者单位

重庆电子工程职业学院应用电子学院,重庆401331;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类在其他方面的应用;
关键词
化学镀铜液; 监测; 分析; 补充;
入库时间 2022-08-18 06:53:37

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