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磁控溅射法制备钼薄膜的研究现状

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摘要

综述了基底表面状态和预热温度,靶材组织和热处理温度,溅射工艺参数(包括时间、功率、气压和靶基距),以及后续退火热处理对磁控溅射制备的Mo薄膜组织及性能的影响.

著录项

来源
《电镀与涂饰》|2016年第24期|1311-1316|共6页
作者
梁婷婷; 王爱琴; 赵海丽; 谢敬佩;
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作者单位

河南科技大学,河南洛阳471023;

河南科技大学,河南洛阳471023;

郑州大学,河南郑州450000;

河南科技大学,河南洛阳471023;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
钼; 薄膜; 磁控溅射; 制备条件; 微观组织; 性能;
入库时间 2022-08-18 06:53:53

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