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摩尔定律的过去、现在和未来

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摘要

分析研究了半导体技术摩尔定律的过去、现在和未来,重点分析了摩尔定律的产生、发展以及在基础物理、光刻、制造成本及功耗等方面的困难和挑战.同时讨论了"超越摩尔定律"的发展方向、适应领域范围,以及摩尔定律在未来的可能实现方式.

著录项

来源
《电子与封装》 |2015年第10期|30-34|共5页
作者
戴锦文; 缪小勇;
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作者单位

南通富士通微电子股份有限公司,江苏南通226006;

南通富士通微电子股份有限公司,江苏南通226006;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类结构、器件;
关键词
摩尔定律; 芯片尺寸极限; 超越摩尔定律; beyond CMOS;

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